Investigadores del MIT han logrado un adelanto significativo en la tecnología de litografía nanométrica, utilizada en la fabricación de chips de ordenador y otros dispositivos electrónicos, para hacer patrones más finos de líneas y además sobre áreas más grandes, algo imposible o muy poco viable con otros métodos.
El problema es ¿qué pasa con las corrientes de fuga? Cuanto más pequeño es el dispositivo suelen ser mayores, en parte por culpa del efecto tunel. ¿Como lo compensan?
Comentarios
¡Te ponen los dientes largos y no te explican como es que lo hacen!
Es un resumen-traducción de esta noticia: http://web.mit.edu/newsoffice/2008/nanochips-0708.html por si alguien tiene curiosidad, en esta sí explican como lo hacen.
¿Conocéis el experimento de Young (http://es.wikipedia.org/wiki/Experimento_de_Young)? Porqué creo que por ahí van los tiros, se utiliza el patrón de interferencia para fotolitografiar las lineas.
Para controlar la difracción utilizan ultra-sonidos
El problema es ¿qué pasa con las corrientes de fuga? Cuanto más pequeño es el dispositivo suelen ser mayores, en parte por culpa del efecto tunel. ¿Como lo compensan?