China prueba un prototipo de máquina de litografía EUV producido de fabricación nacional [ENG]

China ha desarrollado y está poniendo a prueba un prototipo de máquina de litografía de luz ultravioleta extrema (EUV), una tecnología clave para fabricar semiconductores avanzados, hasta ahora monopolizada por occidente. Aunque el prototipo aún no ha producido chips funcionales, su existencia acorta potencialmente la brecha con líderes globales como ASML. Se cree que se ha desarrollado mediante ingeniera inversa de máquinas de ASML.