[c&p] IBM y AMD han presentado la documentación que describe el uso de la litografía de inmersión, "el dieléctrico k ultrabajo de interconexión y múltiples técnicas de tensión de transistores mejoradas para la implantación de la generación de microprocesadores de 45 nm", afirman los grupos. Como explica Nick Kepler, vicepresidente de desarrollo de tecnología lógica de AMD, "la litografía de inmersión nos permitirá ofrecer una definición de diseño de microprocesadores y una consistencia de fabricación mejoradas"